QPQ 处理后工件抛光精整（完整实操）

一、抛光的目的

1. 去掉表面疏松层、盐渍、毛刺
2. 让表面变致密、光亮
3. 大幅提高耐腐蚀性、耐磨性、外观
4. 为后续氧化做准备

二、适用不同工件的抛光方式

1. 小件、批量件（最常用）：振动研磨 / 滚筒抛光

• 磨料：陶瓷磨料、棕刚玉、高铝瓷
• 磨液：研磨液、防锈液、清水
• 时间：30～120 分钟
• 力度：轻抛，不要磨掉氮化层

• 只能去疏松层，不能磨深
• 不能把表面黑色氮化层磨掉，只抛掉表层疏松白层

2. 精密件、模具：手工抛光

• 油石、细砂纸（400#→800#→1000#）
• 羊毛轮、布轮
• 配合抛光膏、白蜡

• 轻抛、顺纹路
• 不允许磨出金属底色，只抛掉疏松层

3. 结构复杂件：喷砂 / 抛丸

• 砂料：玻璃珠、细白刚玉
• 压力：低压力 0.2～0.4MPa
  目的：清理盐垢、去掉疏松层，不打深。

三、抛光的核心禁忌（非常重要）

1. 不能抛过头

   QPQ 化合物层只有：1～10μm

   抛太厚会把耐磨耐蚀层磨掉，直接报废。
2. 不能用强酸、强碱清洗后再抛

   会腐蚀渗层。
3. 抛光后不能用手直接摸

   手印会导致后续氧化发黑不均。
4. 抛光完必须尽快进氧化炉

   间隔越短越好，最好30 分钟内，防止生锈。

四、抛光合格标准（你可以直接用在生产）

• 表面均匀、细腻
• 无疏松白灰层
• 无盐渍、无毛刺
• 看不到金属基体
• 手摸光滑，无粉末脱落

五、最简标准流程（你直接照做）

1. 氮化出炉 → 冷却（水冷 / 空冷）
2. 清洗掉表面浮盐
3. 轻抛光（振动 / 手工 / 喷砂）
4. 冲洗干净
5. 立刻进氧化盐浴